Rubrique Archives
Le CFM lance le groupe de travail «Creative Metrology»
L'objectif de ce groupe de travail est d'établir les bases d'une nouvelle métrologie, capable de répondre aux défis des projets…
Foire de Hanovre et CeMAT réunis en un seul événement
H En réunissant les salons phares de l'industrie manufacturière et de l'intralogistique, Deutsche Messe ambitionne d'organiser la plus grande manifestation…
La secrétaire d'État a inauguré l'Institut LNE-Nanotech
H L'un des objectifs du nouvel institut dédié à la métrologie pour les nanotechnologies du LNE est d'accélérer le développement…
Les premières solutions de test eCall sont certifiées
Rohde & Schwarz puis Keysight Technlogies ont annoncé la certification d'organismes indépendants pour leurs systèmes de test eCall respectifs.
Des recommandations sécurisent l'OPC UA
L'OPC Foundation vient de publier des recommandations pour la configuration et le fonctionnement d'un OPC Unified Architecture sécurisé.
L'analyseur de réseau vectoriel passe à l'open source
Red Pitaya, jeune pousse slovaque, continue de développer son offre d'instruments de mesure économiques, très compacts et en open source,…
«Les facteurs organisatio nnels et humains ont leur place dans la ges tion du risque»
H Trop souvent, la sécurité est réduite à des questions techniques. Mais certains organismes, comme l'Ineris, mettent en avant l'importance…
Les capteurs à obturateur roulant, une alternative économique
Grâce à leurs qualités intrinsèques qui ne cessent de progresser, les capteurs à obturateur roulant (rolling shutter) constituent une alternative…
La supervision est prête pour l'usine du futur
H Les logiciels de supervision tirent profit de l'évolution de l'environnement industriel. Plus connectées, les machines fournissent donc plus de…